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标题
Growing low-temperature, high-quality silicon-dioxide films by neutral-beam enhanced atomic-layer deposition
中性束增强原子层沉积法生长低温高质量二氧化硅薄膜
相关领域
原子层沉积 材料科学 沉积(地质) 图层(电子) 二氧化硅 热的 氧气 分析化学(期刊) 光电子学 纳米技术 化学 复合材料 环境化学 有机化学 气象学 古生物学 物理 生物 沉积物
网址
DOI
10.1088/1361-6463/ab484d doi
其它 期刊:Journal of Physics D
作者:Hua Hsuan Chen; Susumu Toko; Daisuke Ohori; Tomonobu Ozaki; Mitsuya Utsuno; et al
出版日期:2019-10-16
求助人
Yan 在 2024-12-17 11:34:50 发布自上海,悬赏 10 积分
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