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标题
In Situ Monitoring Surface Reactions in Cryogenic Atomic Layer Etching of Silicon Nitride by Alternating Surface Modification with Hydrogen Fluoride Dose and Ar Plasmas
氟化氢剂量和氩等离子体交替表面改性氮化硅低温原子层刻蚀中的表面反应原位监测
相关领域
蚀刻（微加工） 材料科学 氮化硅 氟化氢 图层（电子） 氢 氮化物 原位 表面改性 硅 氟化物 表层 等离子体 分析化学（期刊） 无机化学 纳米技术 光电子学 化学 物理化学 有机化学 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.4c01835
DOI
10.1021/acs.chemmater.4c01835 doi
其它 期刊：Chemistry of Materials
作者：Shih‐Nan Hsiao; Makoto Sekine; Yuki Iijima; Masaru Hori
出版日期：2024-11-07
求助人
调研昵称 在 2024-12-18 16:04:42 发布自北京，悬赏 10 积分
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