Self-aligned double pattern process using DSA pattern

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标题	Self-aligned double pattern process using DSA pattern 使用DSA图案的自对准双图案工艺相关领域材料科学聚苯乙烯平版印刷术线条宽度表面光洁度商标过程（计算）表面粗糙度 GSM演进的增强数据速率光电子学计算机科学光学复合材料聚合物物理电信操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/12.2583668
DOI	10.1117/12.2583668 doi
其它	期刊：作者：Makoto Muramatsu; Takanori Nishi; Yasuyuki Ido; Takahiro Kitano 出版日期：2021-02-22
求助人	专一的孤菱在 2024-08-19 14:37:36 发布自湖北，悬赏 20 积分
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