| 标题 |
 Make the impossible possible: use variable-shaped beam mask writers and curvilinear full-chip inverse lithography technology for 193i contacts/vias with mask-wafer co-optimization 将不可能变为可能：将可变形状光束掩模写入器和曲线全芯片逆光刻技术用于具有掩模-晶圆协同优化的193i触点/过孔
相关领域
平版印刷术
薄脆饼
曲线坐标
炸薯条
材料科学
变量（数学）
电子束光刻
反向
光电子学
光学
纳米技术
物理
工程类
电气工程
抵抗
数学
图层（电子）
几何学
数学分析
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Liang Pang; Sha Lu; E. Vidal Russell; Yang Lu; Michael Lee; et al 出版日期：2024-02-06 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
monere
劲秉
我是站长才怪
爱静静
tuanheqi
子车茗
寒食
HEIKU
双黄
buno
萧水白
三月聚粮
xjcy
模糊中正
Billy
李神奇
带头大哥
彭于彦祖
司南
杳鸢
皖公网安备34019202002308
