| 标题 |
 Unfolding an Elusive Area-Selective Deposition Process: Atomic Layer Deposition of TiO2 and TiON on SiN vs SiO2 展开一种难以捉摸的区域选择性沉积工艺：SiN与SiO2上TiO2和TiN的原子层沉积
相关领域
材料科学
原子层沉积
薄脆饼
升华（心理学）
纳米技术
扫描电子显微镜
制作
选择性
图层（电子）
钛
选择性表面
沉积（地质）
化学工程
光电子学
有机化学
复合材料
冶金
化学
古生物学
沉积物
工程类
生物
医学
心理学
替代医学
病理
心理治疗师
催化作用
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Alfredo Mameli; Kanda Tapily; Jie Shen; Fred Roozeboom; Mengcheng Lu; et al 出版日期：2024-03-06 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
Polymer72
爱静静
无名老大
VDC
霉小欧
安静幻枫
彳亍者
xiaxiao
YifanWang
andrele
wax
Jack80
Singularity
beichuanheqi
jyy
33
我我我我
快乐滑板
Owen
劲秉
皖公网安备34019202002308
