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[高分] Trends of Silicon Wafer Specifications vs. Design Rules in ULSI Device Fabrication. Particles, Flatness and Impurity Distribution Deviations
ULSI器件制造中硅片规格与设计规则的趋势。微粒、平整度和杂质分布偏差
相关领域
平坦度（宇宙学） 薄脆饼 杂质 制作 晶圆制造 材料科学 硅 光电子学 化学 物理 宇宙学 量子力学 医学 病理 有机化学 替代医学
网址
https://www.jstage.jst.go.jp/article/kogyobutsurikagaku/63/3...
AI链接 go.jp go.jpdoi.org
DOI
10.5796/kogyobutsurikagaku.63.194 doi
其它 期刊：Denki Kagaku oyobi Kogyo Butsuri Kagaku
作者：Mototaka Kamoshida
出版日期：1995-03-05
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lgh 在 2025-03-17 20:06:59 发布自陕西，悬赏 150 积分
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