Inverse-Designed Polarization-Insensitive Metasurface Holography Fabricated by Nanoimprint Lithography

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标题	Inverse-Designed Polarization-Insensitive Metasurface Holography Fabricated by Nanoimprint Lithography 纳米压印光刻制作的反向设计偏振不敏感超表面全息相关领域纳米压印光刻光学材料科学全息术平版印刷术电子束光刻极化（电化学）折射率光电子学抵抗制作纳米技术物理医学化学替代医学物理化学病理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1364/ol.540140
DOI	10.1364/ol.540140 doi
其它	期刊：Optics Letters 作者：Gang Yu; Xu Mao; Hongsheng Ding; Fuhua Yang; Xiaodong Wang 出版日期：2024-10-30
求助人	呵呵呵呵在 2024-12-30 11:03:51 发布自天津，悬赏 10 积分
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