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 High‐Yield Production of High‐κ/Metal Gate Nanopattern Array for 2D Devices via Oxidation‐Assisted Etching Approach (Small 51/2024) 通过氧化辅助蚀刻方法高产率生产用于2D器件的高κ/金属栅极纳米图案阵列（Small 51/2024）
相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
产量（工程）
纳米技术
金属
光电子学
冶金
图层（电子）
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| 其它 |
期刊：Small 作者：Weida Hong; Jiejun Zhang; Daobing Zeng; Chen Wang; Zhongying Xue; et al 出版日期：2024-12-01 |
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