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标题
Deep-reactive ion etching of silicon nanowire arrays at cryogenic temperatures
低温下硅纳米线阵列的深反应离子刻蚀
相关领域
深反应离子刻蚀 材料科学 纳米光刻 硅 抵抗 纳米技术 蚀刻（微加工） 薄脆饼 反应离子刻蚀 纳米线 光电子学 各向同性腐蚀 扫描电子显微镜 制作 复合材料 图层（电子） 医学 替代医学 病理
网址
https://doi.org/10.1063/5.0166284
AI链接 aip.org polytechnique.hal.sciencedoi.org
DOI
10.1063/5.0166284 doi
其它 期刊：Applied physics reviews
作者：Jiushuai Xu; Andam Deatama Refino; Alexandra Delvallée; Sebastian Seibert; Christian H. Schwalb; et al
出版日期：2024-04-17
求助人
调研昵称 在 2024-11-22 13:11:27 发布自印度，悬赏 10 积分
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