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Contact resistance: Al and Al–Si to diffused N+ and P+ silicon
接触电阻:Al和Al-Si对扩散的N+和P+硅
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:T. J. Faith; R. S. Irven; S. K. Plante; J. J. O’Neill 出版日期:1983-04-01 |
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