Plasma Sources Science and Technology Etching characteristics of Pb(Zr,Ti)O3, Pt, SiO2 and Si3N4 in an inductively coupled HBr/Ar plasma

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标题	Plasma Sources Science and Technology Etching characteristics of Pb(Zr,Ti)O3, Pt, SiO2 and Si3N4 in an inductively coupled HBr/Ar plasma 电感耦合HBr/Ar等离子体中Pb（Zr，Ti）O3、Pt、SiO2和Si3N4的刻蚀特性
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1088/0963-0252/19/4/04...
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
求助人	Frank 在 2023-08-09 12:25:19 发布自北京，悬赏 10 积分
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