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Reaction Mechanism of Area-Selective Atomic Layer Deposition for Al2O3 Nanopatterns
Al2O3纳米图案的区域选择性原子层沉积反应机理
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Seunggi Seo; Byung Chul Yeo; Sang Soo Han; Chang Mo Yoon; Joon‐Young Yang; et al 出版日期:2017-11-14 |
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