| 标题 |
 Influence of low temperature oxidation and nitrogen passivation on the MOS interface of C-face 4H-SiC 低温氧化和氮钝化对C面4H-SiC MOS界面的影响
相关领域
钝化
接口（物质）
氮气
材料科学
面子（社会学概念）
渗氮
光电子学
工程物理
冶金
化学
纳米技术
复合材料
物理
图层（电子）
有机化学
社会学
毛细管作用
社会科学
毛细管数
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied surface science 作者：Kung‐Yen Lee; Y. H. Chang; Yan Huang; Shuen De Wu; Cheng Yueh Chung; et al 出版日期：2013-10-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
寻道图强
丰盛的煎饼
爱静静
加菲丰丰
杳鸢
shinysparrow
oceanao
竹筏过海
乐乐乐乐乐乐
YifanWang
西红柿炒番茄
Migue
ShowMaker
spark810
kento
tianzml0
田様
嗯哼
冒险寻羊
lqy
皖公网安备34019202002308
