Impact of titanium addition on film characteristics of HfO2 gate dielectrics deposited by atomic layer deposition

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标题	Impact of titanium addition on film characteristics of HfO2 gate dielectrics deposited by atomic layer deposition 添加钛对原子层沉积HfO2栅介质薄膜特性的影响相关领域材料科学分析化学（期刊）无定形固体原子层沉积 X射线光电子能谱椭圆偏振法微晶高-κ电介质电介质退火（玻璃）薄膜光电子学结晶学核磁共振化学纳米技术冶金物理色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.2030407
DOI	10.1063/1.2030407 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Dina H. Triyoso; R. I. Hegde; Stefan Zollner; Michael Ramon; S. Kalpat; et al 出版日期：2005-09-01
求助人	三水台在 2025-03-04 11:07:17 发布自福建，悬赏 10 积分
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