Insights into the origin of robust ferroelectricity in HfO2 -based thin films from the order-disorder transition driven by vacancies

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标题	Insights into the origin of robust ferroelectricity in HfO2 -based thin films from the order-disorder transition driven by vacancies 从空位驱动的有序-无序转变中深入了解OfO 2基薄膜中强铁电性的起源相关领域铁电性结晶学订单（交换）物理偶极子材料科学凝聚态物理电介质化学量子力学财务经济
网址	https://doi.org/10.1103/physrevapplied.22.024028
DOI	10.1103/physrevapplied.22.024028 doi
其它	期刊：Physical Review Applied 作者：Chenxi Yu; Haili Ma; Mingqiang Li; Fei Liu; Xiangxiang Ding; et al 出版日期：2024-08-09
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