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 A review of plasma-assisted deposition methods for amorphous carbon thin and ultrathin films with a focus on the cathodic vacuum arc technique 非晶碳薄膜和超薄膜的等离子体辅助沉积方法综述，重点是阴极真空电弧技术
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期刊：Journal of materials research/Pratt's guide to venture capital sources 作者：Anurag Roy; Shengxi Wang; K. Komvopoulos 出版日期：2023-01-05 |
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