All-Sputter-Deposited Hf0.5Zr0.5O2 Double-Gate Ferroelectric Thin-Film Transistor With Amorphous Indium–Gallium–Zinc Oxide Channel

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标题	All-Sputter-Deposited Hf0.5Zr0.5O2 Double-Gate Ferroelectric Thin-Film Transistor With Amorphous Indium–Gallium–Zinc Oxide Channel 非晶铟镓锌氧化物沟道全溅射沉积Hf0.5Zr 0.5 O2双栅铁电薄膜晶体管相关领域无定形固体材料科学物理算法分析化学（期刊）数学结晶学化学有机化学
网址	https://doi.org/10.1109/led.2023.3260860
DOI	10.1109/led.2023.3260860 doi
其它	期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Soi Jeong; Changhyeon Han; Jiyong Yim; Jeong‐Han Kim; Ki Ryun Kwon; et al 出版日期：2023-05-01
求助人	清新的沛蓝在 2025-03-06 14:16:44 发布自山西，悬赏 10 积分
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