Advanced Process Control of HfxSi1-xO2 Composition using Co-injection Atomic Layer Deposition

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标题	Advanced Process Control of HfxSi1-xO2 Composition using Co-injection Atomic Layer Deposition 共注入原子层沉积HfxSi1-xO2成分的先进工艺控制相关领域原子层沉积铪 X射线光电子能谱材料科学图层（电子）硅沉积（地质）分析化学（期刊）薄膜硅酸盐光电子学化学工程纳米技术锆化学冶金色谱法工程类古生物学生物沉积物
网址	https://doi.org/10.1149/1.3096503
DOI	10.1149/1.3096503 doi
其它	期刊：ECS transactions 作者：Lawrence Bartholomew; Andy Bavin; Thierry Lazerand; Vivek Rao; Matthew Weldon; et al 出版日期：2009-03-06
求助人	lulu 在 2024-06-27 14:44:53 发布自广东，悬赏 10 积分
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