Characterization of NiCrO<inf>x</inf> thin films deposited by reactive sputtering at different O<inf>2</inf> flow rate

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标题	Characterization of NiCrO<inf>x</inf> thin films deposited by reactive sputtering at different O<inf>2</inf> flow rate 不同O2流速下反应溅射沉积NiCrOx薄膜的表征相关领域分析化学（期刊）材料科学立体化学化学有机化学
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/7580918/7589250/07589320...
DOI	10.1109/inec.2016.7589320 doi
其它	期刊：2016 IEEE International Nanoelectronics Conference (INEC) 作者：He Yu; Tao Wang; Shuanghong Wu; Xiang Dong; Jun Gou; et al 出版日期：2016-10-21
求助人	september 在 2024-03-21 13:13:12 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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