Integration and Electrical Properties of Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Thin Film on Bulk β-Ga2O3(-201) Substrate for Memory Applications

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标题	Integration and Electrical Properties of Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Thin Film on Bulk β-Ga2O3(-201) Substrate for Memory Applications 存储用大块β-Ga2O3（-201）衬底上铁电Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的集成度和电学性能相关领域铁电性可扩展性材料科学计算机科学光电子学电介质数据库
网址	http://dx.doi.org/10.1109/led.2018.2868240
DOI	10.1109/led.2018.2868240 doi
求助人	李沐唅在 2024-11-25 22:02:40 发布自贵州，悬赏 10 积分
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