Extremely Thermal Stable Ni/W/TaSi<sub>2</sub>/Pt Simultaneous Ohmic Contacts to n-Type and p-Type 4H-SiC

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标题	Extremely Thermal Stable Ni/W/TaSi<sub>2</sub>/Pt Simultaneous Ohmic Contacts to n-Type and p-Type 4H-SiC 极热稳定的Ni/W/TaSi₂/Pt同时欧姆接触n型和p型4H-SiC 相关领域欧姆接触覆盖层材料科学俄歇电子能谱热稳定性分析化学（期刊）光电子学纳米技术化学工程图层（电子）化学物理化学色谱法物理工程类核物理学
网址	https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.924.401
DOI	10.4028/www.scientific.net/msf.924.401 doi
其它	期刊：Materials science forum 作者：Yan Liang Li; Yi Meng Zhang; Xiao Tang; Tao Guo; Yu Ming Zhang 出版日期：2018-06-05
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