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标题
Total Near Interface Trap Density Calculation of 4H-SiC/SiO2 Structures before and after Nitrogen Passivation
氮钝化前后4H-SiC/SiO2结构近界面总陷阱密度计算
相关领域
材料科学 光电子学 钝化 氮气 分析化学（期刊） 存水弯（水管）
网址
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.717-720.457
DOI
10.4028/www.scientific.net/msf.717-720.457 doi
其它 期刊：Materials Science Forum
作者：S. Salemi; Akin Akturk; Siddharth Potbhare; Aivars J. Lelis; Neil Goldsman
出版日期：2012-05-01
求助人
ljy 在 2025-01-10 10:40:15 发布自河南，悬赏 30 积分
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