Understanding Acid Reaction and Diffusion in Chemically Amplified Photoresists: An Approach at the Molecular Level

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标题	Understanding Acid Reaction and Diffusion in Chemically Amplified Photoresists: An Approach at the Molecular Level 理解化学放大光刻胶中的酸反应和扩散：分子水平的方法相关领域抵抗扩散材料科学聚合物纳米尺度纳米技术临界尺寸化学物理化学光学物理复合材料热力学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1021/jp2027548
DOI	10.1021/jp2027548 doi
其它	期刊：The Journal of Physical Chemistry C 作者：Pedro J. Rodríguez-Cantó; Ulrich Nickel; Rafael Abargues 出版日期：2011-09-07
求助人	虚心盼夏在 2025-03-12 12:33:40 发布自上海，悬赏 10 积分
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