| 标题 |
 Elucidating the patterning mechanism of zirconium-based hybrid photoresists 阐明锆基杂化光刻胶的图案化机理
相关领域
X射线光电子能谱
材料科学
傅里叶变换红外光谱
抵抗
甲基丙烯酸
质谱法
灵敏度（控制系统）
光谱学
纳米技术
锆
机制（生物学）
化学
化学工程
光学
聚合物
物理
聚合
复合材料
色谱法
图层（电子）
冶金
工程类
量子力学
电子工程
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者：Vasiliki Kosma; Kazuki Kasahara; Hong Xu; Jérémy Odent; Christopher K. Ober; et al 出版日期：2017-09-27 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cocolu
彭于彦祖
藤椒辣鱼
快乐滑板
cctv18
iNk
Yifan2024
幽壑之潜蛟
山月
36456657
小菜鸟001
yar
tuanheqi
8R60d8
aldehyde
我是站长才怪
LYSM
不安青牛
duanhuiyuan
kingwill
皖公网安备34019202002308
