标题 |
Thermally Activated Defect Engineering for Highly Stable and Uniform ALD-Amorphous IGZO TFTs with High-Temperature Compatibility
高温相容性高稳定均匀ALD非晶IGZO薄膜晶体管的热激活缺陷工程
相关领域
材料科学
退火(玻璃)
无定形固体
原子层沉积
光电子学
阈值电压
薄膜晶体管
晶体管
电压
薄膜
复合材料
纳米技术
图层(电子)
电气工程
结晶学
化学
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Dong-Gyu Kim; Won-Bum Lee; Seung Hee Lee; Jeongwook Koh; Bong Jin Kuh; et al 出版日期:2023-07-25 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|