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Atmospheric pressure atomic layer deposition for in-channel surface modification of PDMS microfluidic chips
PDMS微流控芯片通道内表面改性的大气压原子层沉积
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期刊:Chemical Engineering Journal 作者:Albert Santoso; Karen David; Pouyan E. Boukany; Volkert van Steijn; J. Ruud van Ommen 出版日期:2024-08-01 |
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