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标题
Plasma etching of organic materials. I. Polyimide in O2–CF4
有机材料的等离子体蚀刻。I.O2-CF4中的聚酰亚胺
相关领域
聚酰亚胺 X射线光电子能谱 蚀刻（微加工） 分析化学（期刊） 氟 氧气 钝化 等离子体 材料科学 反应离子刻蚀 图层（电子） 化学 化学工程 纳米技术 有机化学 冶金 物理 量子力学 工程类
网址
https://doi.org/10.1116/1.583078
DOI
10.1116/1.583078 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Frank D. Egitto
出版日期：1985-05-01
求助人
合适苑睐 在 2024-11-20 11:20:07 发布自重庆，悬赏 10 积分
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