Effects of N2O Plasma Treatment on the Performance and Stability of High Indium Content InGaZnO Thin-Film Transistors

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标题	Effects of N2O Plasma Treatment on the Performance and Stability of High Indium Content InGaZnO Thin-Film Transistors N2O等离子体处理对高铟InGaZnO薄膜晶体管性能和稳定性的影响相关领域薄膜晶体管铟材料科学等离子体光电子学内容（测量理论）晶体管纳米技术电气工程数学工程类物理图层（电子）数学分析量子力学电压
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6463/ad9d52
DOI	10.1088/1361-6463/ad9d52 doi
其它	期刊：Journal of Physics D Applied Physics 作者：Patigul Nurmamat; Rui Li; Linyu Yang; Mamatrishat Mamat; Ablat Abliz 出版日期：2024-12-11
求助人	优秀绮彤在 2024-12-30 13:41:37 发布自陕西，悬赏 10 积分
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