Optimizing EUV imaging metrics as a function of absorber thickness and illumination source: simulation case study of Ta-Co alloy

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标题	Optimizing EUV imaging metrics as a function of absorber thickness and illumination source: simulation case study of Ta-Co alloy 优化作为吸收剂厚度和照明源函数的EUV成像指标：Ta-Co合金的模拟案例研究相关领域光学材料科学极紫外光刻衍射折射率光学（聚焦）偶极子振幅吸收（声学）计算机科学物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2640098
DOI	10.1117/12.2640098 doi
其它	期刊：作者：Devesh Thakare; Annelies Delabie; Vicky Philipsen 出版日期：2022-11-01
求助人	小张真的困啦在 2024-11-15 11:21:12 发布自中国，悬赏 20 积分
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