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 High resolution optical lithography or high throughput electron beam lithography: The technical struggle from the micro to the nano-fabrication evolution 高分辨率光学光刻还是高通量电子束光刻：从微米到纳米的技术斗争
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Shinji Okazaki 出版日期：2015-02-01 |
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