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标题
Plasma-ion-assisted deposition of HfO2 films with low UV absorption
等离子体离子辅助沉积低紫外吸收HfO2薄膜
相关领域
材料科学 等离子体 沉积(地质) 吸收(声学) 离子 光电子学 分析化学(期刊) 化学工程 纳米技术 复合材料 环境化学 物理 生物 工程类 量子力学 古生物学 化学 沉积物
网址
DOI
10.1016/j.surfcoat.2020.125691 doi
其它 期刊:Surface and Coatings Technology
作者:Wenyuan Deng; Chunshui Jin; Chun Li; Shun Yao; Bo Yu; Yu Liu
出版日期:2020-05-13
求助人
挺好 在 2024-08-22 10:17:11 发布自江苏,悬赏 10 积分
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