Formation mechanism and photoelectric properties of Al2O3 film based on atomic layer deposition

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标题	Formation mechanism and photoelectric properties of Al2O3 film based on atomic layer deposition 原子层沉积Al2O3薄膜的形成机理及光电性能相关领域材料科学原子层沉积微电子图层（电子）电介质纳米制造氧化物光电子学薄膜光电效应光探测纳米技术基质（水族馆）冶金海洋学地质学光电探测器
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.151419
DOI	10.1016/j.apsusc.2021.151419 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Bin Wei; Huimin Chen; Wenqiang Hua; Minyu Chen; Xingwei Ding; et al 出版日期：2022-01-15
求助人	苗山柳在 2024-06-18 15:18:06 发布自山西，悬赏 10 积分
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