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 Effect of Mn-Based Slurries on Chemical Mechanical Polishing of SiC Substrates 锰基浆料对SiC基片化学机械抛光的影响
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Pan Zhao; Tao Yin; Toshiro Doi; Svuhei Kurokawa; Kiyoshi Seshimo; et al 出版日期：2022-06-24 |
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