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Reliability Improvement by 0.153UM CMOS Using HDP-CVD at STI Edge Sin Liner
在STI边缘Sin衬底上使用HDP-CVD提高0.153 um CMOS的可靠性
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期刊:2020 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) 作者:WeiYang Zhang; RenGang Qin; XiaoFeng Sun; DeJin Wang; HaoYu Wen; YaoHui Zhou 出版日期:2020-12-22 |
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