Industrial Czochralski n‐type silicon wafers: gettering effectiveness and possible bulk limiting defects

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标题	Industrial Czochralski n‐type silicon wafers: gettering effectiveness and possible bulk limiting defects 工业直拉n型硅片：吸杂效果和可能的体积限制缺陷相关领域吸气剂锭薄脆饼材料科学载流子寿命硅钝化杂质冶金光电子学化学复合材料合金图层（电子）有机化学
网址	https://doi.org/10.1002/solr.202300928
DOI	10.1002/solr.202300928 doi
其它	期刊：Solar RRL 作者：Tien T. Le; Yalun Cai; Zhongshu Yang; Ran Chen; Daniel Macdonald; et al 出版日期：2023-12-28
求助人	Richard 在 2024-03-29 09:14:59 发布自浙江，悬赏 10 积分
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