Microstructural control of Cr–Si–N films by a hybrid arc ion plating and magnetron sputtering process - 科研通

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标题	Microstructural control of Cr–Si–N films by a hybrid arc ion plating and magnetron sputtering process 电弧离子镀和磁控溅射混合工艺控制Cr-Si-N薄膜的微观结构相关领域材料科学微观结构无定形固体纳米复合材料溅射沉积溅射偏压透射电子显微镜基质（水族馆）冶金复合材料薄膜纳米技术结晶学电压物理量子力学地质学化学海洋学
网址	https://doi.org/10.1016/j.actamat.2009.07.001
DOI	10.1016/j.actamat.2009.07.001 doi
其它	期刊：Acta Materialia 作者：Qi Min Wang; Kwang Ho Kim 出版日期：2009-07-28
求助人	粗暴的冰菱在 2024-12-18 14:13:19 发布自天津，悬赏 10 积分
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