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Microstructural control of Cr–Si–N films by a hybrid arc ion plating and magnetron sputtering process

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作者
Qi Min Wang,Kwang Ho Kim
出处
期刊：Acta Materialia [Elsevier]
日期：2009-07-28 卷期号：57 (17): 4974-4987 被引量：74
标识
DOI：10.1016/j.actamat.2009.07.001
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