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 Parallel two-photon lithography achieving uniform sub-200 nm features with thousands of individually controlled foci 并行双光子光刻实现具有数千个单独控制焦点的均匀亚200 nm特征
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期刊：Optics Express 作者：Shunhua Yang; Chenyi Su; Songyun Gu; Qiuyuan Sun; Qi Sun; et al 出版日期：2023-03-29 |
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