Plasma-free metal-assisted chemical etching producing three-dimensional gallium nitride structures

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标题	Plasma-free metal-assisted chemical etching producing three-dimensional gallium nitride structures 制备三维氮化镓结构的无等离子体金属辅助化学蚀刻相关领域材料科学氮化镓镓光电子学宽禁带半导体氮化物半导体紫外线蚀刻（微加工）带隙等离子体刻蚀纳米技术冶金图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1039/d3tc02731g
DOI	10.1039/d3tc02731g doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Yikai Liao; You Jin Kim; Shu An; Munho Kim 出版日期：2023-01-01
求助人	Tao 在 2025-02-09 10:46:04 发布自浙江，悬赏 10 积分
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