Characterization of rf-sputtered SnOx thin films by electron microscopy, Hall-effect measurement, and Mössbauer spectrometry

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标题	Characterization of rf-sputtered SnOx thin films by electron microscopy, Hall-effect measurement, and Mössbauer spectrometry 射频溅射SnOx薄膜的电子显微镜、霍尔效应测量和M ö ssbauer光谱表征相关领域霍尔效应分析化学（期刊）溅射微晶溅射沉积材料科学透射电子显微镜薄膜电阻率和电导率扫描电子显微镜质谱法粒度化学冶金纳米技术复合材料色谱法工程类电气工程
网址	https://doi.org/10.1063/1.346889
DOI	10.1063/1.346889 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：B. Stjerna; Claes G. Granqvist; Agneta Seidel; Lennart Häggström 出版日期：1990-12-15
求助人	花开米兰城在 2024-11-13 09:15:36 发布自江苏，悬赏 10 积分
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