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 Nitrogen defect structure and NO+ intermediate promoted photocatalytic NO removal on H2 treated g-C3N4 氮缺陷结构和NO+中间体促进H_2处理的G-C_3N_4光催化去除NO
相关领域
光催化
氮气
材料科学
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氢
辐照
光化学
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化学
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化学工程
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工程类
物理
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期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Jing Liao; Wen Cui; Jieyuan Li; Jianping Sheng; Hong Wang; et al 出版日期：2020-01-01 |
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