| 标题 |
 Beyond 10 μm Depth Ultra-High Speed Etch Process with 84% Lower Carbon Footprint for Memory Channel Hole of 3D NAND Flash over 400 Layers 400层以上3D NAND闪存通道孔超10 μ m深度超高速刻蚀工艺，碳足迹降低84%
相关领域
与非门
蚀刻（微加工）
闪光灯（摄影）
薄脆饼
材料科学
光电子学
闪存
足迹
电荷陷阱闪光灯
德拉姆
碳足迹
频道（广播）
纳米技术
电子工程
电气工程
温室气体
计算机科学
计算机硬件
工程类
光学
物理
图层（电子）
地质学
古生物学
海洋学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Yoshihide Kihara; Maju Tomura; Wataru Sakamoto; Masanobu Honda; Masayuki Kojima 出版日期：2023-06-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
Endlessway
杳鸢
劲秉
不配.
彭于彦祖
xjcy
汀烟
HEIKU
lalala
嗯哼
子车茗
好困
ephore
坚强的广山
柳叶刀小猪
寻道图强
爱静静
Darcy
iNk
宜醉宜游宜睡
皖公网安备34019202002308
