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 Effect of Gas Flow Rate in PECVD of Amorphous Silicon Thin Films for Interface Passivation of Silicon Heterojunction Solar Cells 气体流速对非晶硅薄膜界面钝化的影响
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钝化
等离子体增强化学气相沉积
材料科学
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期刊：Physica Status Solidi A-applications and Materials Science 作者：Ashutosh Pandey; Shrestha Bhattacharya; Jagannath Panigrahi; Sourav Mandal; Vamsi K. Komarala 出版日期：2022-05-23 |
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