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 New chamber walls conditioning and cleaning strategies to improve the stability of plasma processes 提高等离子体过程稳定性的新腔室壁调节和清洁策略
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Gilles Cunge; B Pelissier; Olivier Joubert; R. Ramos; C. Maurice 出版日期：2005-08-01 |
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