标题 |
Influence of Deposition and Annealing Temperature on Resistivity and Nanoindentation Characteristics of Reactive Magnetic Sputtered NiO Films
沉积和退火温度对反应磁溅射NiO薄膜电阻率和纳米压痕特性的影响
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DOI |
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其它 |
ource IRANIAN JOURNAL OF CHEMISTRY & CHEMICAL ENGINEERING-INTERNATIONAL ENGLISH EDITION Volume42Issue10Page3249-3256 |
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