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标题
Study of submicron-resolution, high-accuracy overlay and large-field lithography for advanced packaging
用于先进封装的亚微米分辨率、高精度覆盖和大视场光刻技术研究
相关领域
中间层 覆盖 计算机科学 嵌入式系统 步进电机 平版印刷术 互连 极紫外光刻 电子工程 计算机硬件 材料科学 工程类 图层（电子） 光电子学 纳米技术 操作系统 计算机网络 蚀刻（微加工）
网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.23.1.011004
DOI
10.1117/1.jmm.23.1.011004 doi
其它 期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology
作者：Ken-ichiro Shinoda; Douglas Shelton; Masaki Mizutani; K. Mori; Hiromi Suda
出版日期：2024-01-02
求助人
小猪佩琪 在 2025-04-16 08:56:54 发布自安徽，悬赏 20 积分
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