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 Atomic‐Scale Structural Dynamics at a‐Si:H/c‐Si Heterointerface During Low‐Temperature Thermal Annealing 低温热退火过程中a-Si：H/c-Si异质界面原子尺度结构动力学
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
原子单位
热的
硅
分子动力学
化学物理
比例（比率）
凝聚态物理
纳米技术
工程物理
光电子学
热力学
冶金
计算化学
化学
物理
量子力学
工程类
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| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced Functional Materials 作者：Xianlin Qu; Feihong Chu; Yongcai He; Xiaoqing Chen; Zilong Zheng; et al 出版日期：2024-09-16 |
| 求助人 | |
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