| 标题 |
 Anti-reflection coating at 550 nm fabricated by atomic layer deposition 原子层沉积制备550 nm减反射涂层
相关领域
原子层沉积
光学
涂层
材料科学
光学涂层
图层（电子）
反射（计算机编程）
沉积（地质）
防反射涂料
光电子学
复合材料
物理
计算机科学
地质学
古生物学
沉积物
程序设计语言
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chinese Optics Letters 作者：Yanghui Li; Weidong Shen; Yueguang Zhang; Hao Xiang; H. Fan; et al 出版日期：2013-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
不配.
含蓄的明雪
彭于彦祖
薰硝壤
苏卿
pcr163
哎嘿
甜甜玫瑰
吃不饱星球球长
暮霭沉沉
互助遵法尚德
Singularity
tianzml0
iNk
Henry
嗯哼
Yziii
oceanao
从容芮
Frank
皖公网安备34019202002308
