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 Effect of Plasma Modulation on Si Chemical DryEtching in F$_2$ Remote Plasmas 等离子体调制对F$_2远程等离子体Si化学干蚀刻的影响
相关领域
等离子体
调制（音乐）
材料科学
原子物理学
物理
核物理学
声学
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期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Yeon-Sook Yun; S.M. Park; nbsp Min-Hwan Lee 出版日期：2008-11-15 |
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