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Metal layer single EUV expose at pitch 28: how bright field and NTD resist advantages align
间距28的金属层单EUV曝光:明场和NTD抗蚀剂优势如何对齐
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期刊: 作者:Joern-Holger Franke; Andreas Frommhold; Natalia Davydova; Remko Aubert; Vineet Vijayakrishnan Nair; et al 出版日期:2021-02-22 |
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